在杨氏双孔干涉装置中，如果将将双孔屏沿横向向上作小位移，对屏幕上干涉条纹的描述正确的是
A: 整个干涉条纹区向下移
B: 干涉条纹间距变大，可见度变小
C: 整个干涉条纹区向上移
D: 干涉条纹间距和可见度不变
A: 整个干涉条纹区向下移
B: 干涉条纹间距变大，可见度变小
C: 整个干涉条纹区向上移
D: 干涉条纹间距和可见度不变
举一反三
- 杨氏双缝干涉装置中,如果光源沿垂直轴线方向下移,则干涉图样将如何变化?( ) A: 条纹上移 ,间距不变 B: 条纹下移,间距不变 C: 条纹上移 ,间距变大 D: 条纹下移,间距变大
- 【单选题】若用一薄云母片将杨氏双缝实验装置的上缝盖住,则: A. 条纹上移，但干涉条纹间距不变 B. 条纹下移，但干涉条纹间距不变 C. 条纹上移，但干涉条纹间距变小 D. 条纹上移，但干涉条纹间距变大
- 在单色光照明下，轴线对称的杨氏干涉双孔装置中，单孔屏与双孔屏的间距为1m，双孔屏与观察屏的间距为2m，装置满足远场、傍轴条件，屏上出现对比度K=1.0的等间隔干涉条纹，现将双孔屏沿横向向上平移1mm，则______． A: 干涉条纹向上平移2mm B: 干涉条纹向上平移3mm C: 干涉条纹向下平移2mm D: 条纹间隔变宽 E: 对比度下降
- 在单色光照明下，轴线对称的杨氏干涉双孔装置中，单孔屏与双孔屏的间距为1m，双孔屏与观察屏的间距为2m，装置满足远场、傍轴条件，屏上出现对比度K=1.0的等间隔干涉条纹，现将双孔屏沿横向向上平移1mm，则 。 A: 干涉条纹向上平移2mm B: 干涉条纹向上平移3mm C: 干涉条纹向下平移2mm D: 条纹间隔变宽
- 在杨氏双缝干涉实验中，如果用薄云母片盖住下缝，则干涉条纹将（）。 A: 条纹上移，干涉条纹之间的距离不变 B: 条纹上移，干涉条纹之间的距离变小 C: 条纹下移，干涉条纹之间的距离不变 D: 条纹下移，干涉条纹之间的距离变大