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  • 2021-04-14
    下唇线至牙合平面的距离约为下中切牙长度的
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    举一反三

    • 开口度是指患者最大开口时() A: 上下唇之间的距离 B: 上下中切牙切缘之间的距离 C: 上下中切牙龈缘之间的距离 D: 上中切牙切缘至颏底的距离 E: 鼻底至颏底的距离
    • III度前牙深覆盖( ) A: 上切牙切端至下前牙唇面的最大水平距离大于4mm B: 上切牙切端至下前牙唇面的最大水平距离大于5mm C: 上切牙切端至下前牙唇面的最大水平距离大于6mm D: 上切牙切端至下前牙唇面的最大水平距离大于8mm E: 上切牙切端至下前牙唇面的最大水平距离大于7mm
    • 开口度是指患者开口最大时()。 A: 上下唇之间的距离 B: 下中切牙切缘之间的距离 C: 上下中切牙龈缘之间的距离 D: 鼻底至颏底的距离 E: 上下前庭沟底之间距离
    • A1型题 开口度是指患者开口最大时() A: 上下唇之间的距离 B: 上下中切牙切缘之间的距离 C: 上下中切牙龈缘之间的距离 D: 鼻底至颏底的距离 E: 上颌切牙切缘至下颌切牙龈缘的距离
    • 牙尖交错(牙合)时,上颌切牙切缘盖过下颌切牙唇面的水平距离为10mm称为 A: 正常覆(牙合) B: 深覆盖 C: 正常覆盖 D: 反覆盖 E: 深覆(牙合)

    热门题目

    • 用于排除AMI发生的较好指标是() A: AMB B: BCK C: CLDH1 D: DcTnT E: EAST
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    • 90%~100%的患者存在幽门螺旋杆菌感染,OR>10 A: 关联时间JI匝序的证据 B: 关联强度的证据 C: 关联可重复性的证据 D: 关联合理性的证据 E: 关联特异性的证据 F: 下列证据分别符合病因推断的哪条标准:
    • 冈崎片段是指() A: 前导链上合成的DNA片段 B: 随从链上合成的DNA片段 C: 由DNA连接酶合成的DNA D: DNA模板上的DNA片段 E: 引物酶催化合成的RNA片段
    • 下面对可行性分析报告的描述中,正确的是_______。 A: 只有开发大型的信息系统时才需要提交可行性分析报告 B: 可行性分析报告是管理信息系统开发过程中的最后一份文档 C: 可行性分析报告是将来系统开发时分析员与用户交流的基础文本 D: 可行性分析报告由用户领导、管理人员与系统开发人员共同讨论分析

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      面的 平面 中切 下唇 长度 切牙 约为 下唇线 距离

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