在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离子化为离子，直接沉积到基体表面上的方法叫做_______。
举一反三
- 物理气相沉积是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成[ ]、[ ]或使其[ ]，直接沉积到基片（工件）表面形成固态薄膜的方法。
- PVD真空镀，它是指利用物理过程实现物质转移，将原子或分子移到基材表面上的过程。（ ）
- PVD真空镀，它是指利用物理过程实现物质转移，将原子或分子移到基材表面上的过程。 A: 对 B: 错
- 常见的物理气相沉积技术有。? 离子镀膜|分子束外延技术|真空蒸镀|溅射镀膜
- （）是利用热源将喷涂材料加热至熔化或半熔化状态，并以一定的速度喷射沉积到经过预处理的基体表面，形成与工件基体牢固结合的涂层的方法，是表面工程技术的重要组成部分之一。 A: 钎焊 B: 电刷镀 C: 热喷涂技术 D: 堆焊