关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！ 2022-10-27 离子注入后，杂质的浓度分布基本符合 A: 余误差函数 B: 高斯函数 C: 线性函数 D: 抛物线性函数 离子注入后，杂质的浓度分布基本符合A: 余误差函数B: 高斯函数C: 线性函数D: 抛物线性函数 答案： 查看 举一反三 离子注入的杂质分布函数是: A: 线性函数 B: 抛物线函数 C: 余误差函数 D: 高斯函数 有限源扩散杂质分布符合 A: 高斯函数 B: 余误差函数 C: 抛物线函数 D: 指数函数 恒定表面源扩散的杂质分布在数学上称为什么分布？（） A: 高斯函数 B: 余误差函数 C: 指数函数 D: 线性函数 恒定表面源扩散的杂质分布在数学上称为什么分布？（） A: A高斯函数 B: B余误差函数 C: C指数函数 D: D线性函数 有限表面源扩散与离子注入的杂质分布都满足高斯函数，两种掺杂工艺杂质最高浓度位置都在硅片表面。
