关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！ 2022-10-27 化学式抛光是磨片的一种方法，简称CMP 化学式抛光是磨片的一种方法，简称CMP 答案： 查看 举一反三 化学机械平坦化，简称CMP，它是一种表面全局平坦化技术。 CMP后需要进行去离子水清洗,去除抛光带来的化学污染物。 化学机械平坦化，简称CMP，它是一种表面全局平坦化技术。 A: 正确 B: 错误 中国大学MOOC: 化学机械平坦化，简称CMP，它是一种表面全局平坦化技术。 晶圆表面需要打磨，通常使用CMP方法抛光。
