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  • 2022-10-27
    表征一个硅片的扩散效果,主要通过()。两者的综合表现就决定了扩散方块电阻。
    A: 电压
    B: 结深
    C: 表面掺杂浓度
    D: 电流
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    举一反三

    • 扩散后硅片刻蚀后方块电阻会上升。
    • 在研究扩散规律中,非常重要的一个参数是 A: 扩散系数 B: 方块电阻 C: 结深 D: 表面浓度
    • 方块电阻的大小与方块的大小无关,只与扩散薄层的材料(电阻率)及扩散的深度(结深)有关。
    • 下面关于扩散层的方块电阻的描述不正确的是()。 A: 方块电阻反映了单位面积扩散进去的杂质总量,扩散的杂质越多,电阻越小 B: 可以通过测方块电阻来检测扩散进去的单位面积的杂质量 C: 方块电阻反映了单位面积扩散进去的杂质总量,扩散的杂质越多,电阻越大 D: 方块电阻的测量可以采用C-V法测量
    • 扩散浓度小,方块电阻大

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