溅射法与蒸镀法相比较，溅射法制备的薄膜质量（如粘附性、保形性等）更好。
举一反三
- 溅射与蒸镀比较，溅射制备的薄膜质量（如粘附性、保形性等）更好。
- 溅射制备SiO2薄膜，通常采用 ______ 溅射方法。
- 下列关于真空蒸发法和溅射法镀膜对比叙述正确的是() A: 溅射法沉积原子的能量通常更高 B: 真空蒸发法所镀薄膜在基材上的附着力更好 C: 溅射的靶材不能是极难熔的材料 D: 制备合金薄膜时,利用蒸发法其成分的控制性能更好
- PVD与CVD比较，下列那种说法正确： A: PVD薄膜的保形性更好； B: PVD薄膜与衬底的粘附性较差； C: CVD工艺温度更低； D: CVD普适性更好。
- 大规模镀制化合物薄膜最适合采用的溅射方法是： 。 A: 二级溅射 B: 磁控溅射 C: 射频溅射 D: 反应溅射