以下CVD技术中，工作压强最低的一类方法是（ ）。
A: APCVD
B: LPCVD
C: UHV/CVD
D: P-CVD
A: APCVD
B: LPCVD
C: UHV/CVD
D: P-CVD
举一反三
- 关于CVD方法,以下说法正确的是:() A: CVD过程中,温度较高时一定为扩散限制 B: APCVD的成膜质量要明显高于LPCVD C: PECVD的沉积温度要明显低于APCVD和LPCVD D: CVD技术可以作为一种表面改性技术
- LPCVD（低压CVD）
- 解释质量输运限制CVD工艺和反应速度限制CVD工艺的区别，哪种工艺依赖于温度，LPCVD和APCVD各属于哪种类型？
- 以下关于CVD说法错误的是 A: 、CVD过程需要能量，根据能量的来源可将CVD分成热CVD，光CVD等 B: 、CVD不易实现高精度的膜层 C: 、CVD生产快，批量大，所以大多数制膜采用CVD D: 、PVD属于CVD的一种
- 简述常压CVD系统（APCVD）的优缺点。