湿法腐蚀由于是基于化学反应的刻蚀工艺,所以都是各向同性的。()
举一反三
- ⑰ 湿法刻蚀与干法刻蚀的比较错误的是 A: 、湿法刻蚀是各向同性的，干法刻蚀是各向异性的 B: 、湿法刻蚀由于存在侧蚀现象，不宜制作很微细的图形 C: 、干法刻蚀效果好，但工艺要求高 D: 、干法和湿法刻蚀都不存在晶体缺陷和污染等物理损伤
- 以下刻蚀方法中，不属于各向同性的刻蚀是（）。 A: 湿法刻蚀 B: 溅射刻蚀 C: 等离子体刻蚀 D: 反应离子刻蚀
- 由于干法刻蚀中是同时对晶片上的光刻胶及裸露出来的薄膜进行刻蚀的，所以其（）就比以化学反应的方式进行刻蚀的湿法还来得差。 A: 刻蚀速率 B: 选择性 C: 各向同性 D: 各向异性
- 金属是晶体，晶体是各向异性的，所以实际金属的各向异同性是（ ）。 A: 各向同性 B: 各向异性 C: 不确定各向异同 D: 视具体金属而定
- 由于干法刻蚀中是同时对晶片上的光刻胶及裸露出来的薄膜进行刻蚀的，所以其（）就比以化学反应的方式进行刻蚀的湿法还来得差。 A: A刻蚀速率 B: B选择性 C: C各向同性 D: D各向异性