硅的湿法刻蚀腐蚀液为热磷酸，干法刻蚀所用的气体为NF3
A: 正确
B: 错误
A: 正确
B: 错误
举一反三
- 硅的湿法刻蚀腐蚀液为热磷酸，干法刻蚀所用的气体为NF3
- 中国大学MOOC: 硅的湿法刻蚀腐蚀液为热磷酸，干法刻蚀所用的气体为NF3。
- 干法刻蚀和湿法刻蚀二者中，通常（）的刻蚀选择比较高，（）的刻蚀通常是各向异性。 A: 湿法刻蚀 干法刻蚀 B: 干法刻蚀 湿法刻蚀 C: 湿法刻蚀 湿法刻蚀 D: 干法刻蚀 干法刻蚀
- 关于干法和湿法刻蚀说法错误的是() A: 湿法刻蚀保真度较差 B: 干法刻蚀选择性较差 C: 干法刻蚀均匀性较好 D: 干法刻蚀清洁性较好
- ⑰ 湿法刻蚀与干法刻蚀的比较错误的是 A: 、湿法刻蚀是各向同性的，干法刻蚀是各向异性的 B: 、湿法刻蚀由于存在侧蚀现象，不宜制作很微细的图形 C: 、干法刻蚀效果好，但工艺要求高 D: 、干法和湿法刻蚀都不存在晶体缺陷和污染等物理损伤