干法刻蚀是利用 进行薄膜刻蚀的技术
A: 、等离子体
B: 、离子
C: 、光子
D: 、电子
A: 、等离子体
B: 、离子
C: 、光子
D: 、电子
举一反三
- （）的刻蚀方法是以等离子体辅助来进行薄膜刻蚀的一种技术。 A: 干法刻蚀 B: 湿法刻蚀 C: 化学刻蚀 D: 物理刻蚀
- 两种刻蚀方法中,属于各向同性刻蚀的是: A: 干法刻蚀 B: 湿法刻蚀 C: 离子刻蚀 D: 溅射刻蚀
- 干法刻蚀一般通过气体放电产生离子或者活性基对薄膜进行刻蚀，干法刻蚀可以实现各向异性刻蚀，原因是 A: 离子可用电磁场对其能量和运动方向进行控制 B: 活性基的运动是随机的 C: 活性基可以对基板进行化学刻蚀 D: 离子的动能不一样，刻蚀速率不一样
- 干法刻蚀一般通过气体放电产生离子或者活性基对薄膜进行刻蚀，干法刻蚀可以实现各向异性刻蚀，原因是</p></p>
- 中国大学MOOC: （）的刻蚀方法是以等离子体辅助来进行薄膜刻蚀的一种技术。