关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！ 2022-10-27 在光刻前处理工艺中涂覆HMDS的目的是增强分辨率。 在光刻前处理工艺中涂覆HMDS的目的是增强分辨率。 答案： 查看 举一反三 在光刻前处理工艺中涂覆HMDS的目的是增强分辨率。 A: 正确 B: 错误 中国大学MOOC: 光刻工艺中的HMDS增黏处理的方法有两种，分别是（）和（）。 在光刻工艺中，涂覆光刻胶主要采用旋转涂覆法。为便于夹取，光刻胶经硬烘烤后，需要将晶圆四周的光刻胶用物理方法除去。 LOM工艺后置处理中的表面涂覆工艺的优点不包括 光刻工艺中的HMDS增黏处理的方法有两种，分别是旋转涂布法和（）。 A: 正性涂布法 B: 负性涂布法 C: 选择涂布法 D: 气相涂底法
