中国大学MOOC: CMP工艺中抛光压力越大，抛光速率越快，抛光效果就越好。
错
举一反三
内容
- 0
中国大学MOOC: 化学机械抛光CMP工艺中影响抛光质量的三大关键要素是（）。
- 1
一般来说，抛光时间越长，抛光效果越好，应尽量延长抛光时间。（ ）
- 2
化学机械抛光设备中的抛光垫越粗糙，抛光速率越高，抛光图形的选择性越高，平坦化抛光的效果也越好，但过于粗糙，易产生划痕。
- 3
酸性抛光液的PH值越大,抛光速率也就越快。( )
- 4
化学机械抛光CMP设备中的抛光区域温度升高，抛光速率会减小，但是温度过高过低均会引起抛光质量下降。