关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！ 2022-10-28 深反应离子刻蚀工艺是采用刻蚀和______ 交替进行的工艺实现对侧壁的保护，能够实现可控的侧向刻蚀，可以制作出高深宽比结构。 深反应离子刻蚀工艺是采用刻蚀和______ 交替进行的工艺实现对侧壁的保护，能够实现可控的侧向刻蚀，可以制作出高深宽比结构。 答案： 查看 举一反三 反应离子深刻蚀中的时分复用深刻蚀能实现非常高的刻蚀深宽比，其在每个周期内的刻蚀是各向______ 的。 圆筒式等离子刻蚀的（），适用于（）工艺；反应离子刻蚀，（），可以用通入不同的工艺气体，实现好的选择性，适合于对（）和（）的刻蚀。 反应离子刻蚀是 A: 化学刻蚀机理 B: 物理刻蚀机理 C: 物理的溅射刻蚀和化学的反应刻蚀相结合 采用无机碱（KOH/NaOH）在刻蚀工艺中对扩散后硅片背面及边缘进行刻蚀抛光，替代传统酸抛光刻蚀工艺，能够取得更好的抛光性能，并降低工艺成本。 在刻蚀工艺中，具有最高选择性的刻蚀工艺是 A: 等离子体刻蚀 B: 干法刻蚀 C: 湿法刻蚀 D: 物理刻蚀
