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  • 2022-10-27
    在光学曝光中,由于掩膜版的位置不同,又分为接触式曝光,接近式曝光和: 。
    A: 投影式曝光
    B: X射线曝光
    C: 电子束曝光
    D: 离子束曝光
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    举一反三

    • 按曝光的光源分类,曝光可以分为()。 A: 光学曝光 B: 离子束曝光 C: 接近式曝光 D: 电子束曝光 E: 投影式曝光
    • 按曝光的光源分类,曝光可以分为()。 A: A光学曝光 B: B离子束曝光 C: C接近式曝光 D: D电子束曝光 E: E投影式曝光
    • 曝光方式中,图形尺寸和掩膜尺寸一致的有()。 A: 接近式曝光 B: 接触式曝光 C: 投影式曝光
    • 光刻技术中的曝光方式有()。 A: 接近式曝光 B: 接触式曝光 C: 投影式曝光
    • 光刻技术中最常用的曝光方式有()。 A: 接触式曝光 B: 接近式曝光 C: 投影式曝光 D: 压印式曝光

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      曝光 接近 电子束 光和 位置 接触 投影 射线 由于 又分 电子 不同 光学 离子 分为 离子束

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