在HCNC(华中数控系统)中,刀具长度补偿可同时施加在多个轴上。
在HCNC(华中数控系统)中,刀具长度补偿可同时施加在多个轴上。
HCNC(华中数控系统)中S所编程的主轴转速可以用机床面板上的主轴倍率开关调整。
HCNC(华中数控系统)中S所编程的主轴转速可以用机床面板上的主轴倍率开关调整。
HCNC(华中数控系统),当开始运动时,能自动执行加速过程,目的是()。 A: 加速运动; B: 减小间隙; C: 平滑启动; D: 缩短工期;
HCNC(华中数控系统),当开始运动时,能自动执行加速过程,目的是()。 A: 加速运动; B: 减小间隙; C: 平滑启动; D: 缩短工期;
HCNC(华中数控系统),当结束运动时,能自动执行减速过程,目的是()。 A: 平滑停止; B: 立即刹车; C: 避免碰撞; D: 提高效率;
HCNC(华中数控系统),当结束运动时,能自动执行减速过程,目的是()。 A: 平滑停止; B: 立即刹车; C: 避免碰撞; D: 提高效率;
HCNC(华中数控系统)中,G00为快速定位指令,目前最多可实现()同时控制。 A: 3轴 B: 4轴 C: 6轴 D: 9轴
HCNC(华中数控系统)中,G00为快速定位指令,目前最多可实现()同时控制。 A: 3轴 B: 4轴 C: 6轴 D: 9轴
HCNC(华中数控系统)中,G92指令通过设定()相对于工件坐标系原点的相对位置,建立工件坐标系。 A: 机床原点 B: 刀具起点 C: 刀具终点 D: 任意点
HCNC(华中数控系统)中,G92指令通过设定()相对于工件坐标系原点的相对位置,建立工件坐标系。 A: 机床原点 B: 刀具起点 C: 刀具终点 D: 任意点
HCNC(华中数控系统)中,应使刀具长度补偿的偏置值与偏置号相对应,可以通过()先设置在偏置存贮器中。 A: ROM; B: RAM; C: CPU; D: MDI/CRT;
HCNC(华中数控系统)中,应使刀具长度补偿的偏置值与偏置号相对应,可以通过()先设置在偏置存贮器中。 A: ROM; B: RAM; C: CPU; D: MDI/CRT;
HCNC(华中数控系统)插补机能是根据来自缓冲区中存储的零件程序数据段信息,以()进行计数,不断向系统提供坐标轴的位置命令,这种计算叫做插补计算。 A: 数字方式; B: 模拟信息; C: 物理方式; D: 连续信息;
HCNC(华中数控系统)插补机能是根据来自缓冲区中存储的零件程序数据段信息,以()进行计数,不断向系统提供坐标轴的位置命令,这种计算叫做插补计算。 A: 数字方式; B: 模拟信息; C: 物理方式; D: 连续信息;
相同物质的量浓度的NaCN和NaClO相比,NaCN溶液的pH较大,则同温同体积同浓度的HCN和HClO说法正确的是( )A.电离程度:HCN>HClOB.pH:HClO>HCNC.与NaOH溶液恰好完全反应时,消耗NaOH的物质的量:HClO>HCND.酸根离子浓度:c(CN-)<c(ClO-) A: 电离程度:HCN>HClO B: pH:HClO>HCN C: 与NaOH溶液恰好完全反应时,消耗NaOH的物质的量:HClO>HCN D: 酸根离子浓度:c(CN-)<c(ClO-)
相同物质的量浓度的NaCN和NaClO相比,NaCN溶液的pH较大,则同温同体积同浓度的HCN和HClO说法正确的是( )A.电离程度:HCN>HClOB.pH:HClO>HCNC.与NaOH溶液恰好完全反应时,消耗NaOH的物质的量:HClO>HCND.酸根离子浓度:c(CN-)<c(ClO-) A: 电离程度:HCN>HClO B: pH:HClO>HCN C: 与NaOH溶液恰好完全反应时,消耗NaOH的物质的量:HClO>HCN D: 酸根离子浓度:c(CN-)<c(ClO-)