关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！ 2022-05-30 MEMS光刻与IC光刻的主要区别在于()。 A: MEMS光刻需要在更为不平整的表面上进行 B: MEMS光刻的线条更细 C: MEMS光刻都需要双面进行 MEMS光刻与IC光刻的主要区别在于()。A: MEMS光刻需要在更为不平整的表面上进行B: MEMS光刻的线条更细C: MEMS光刻都需要双面进行 答案： 查看 举一反三 光刻技术中的曝光方式主要包括下面哪几种？（）。 A: 压印式光刻 B: 投影式光刻 C: 接近式光刻 D: 接触式光刻 光刻技术中的曝光方式主要包括下面哪三种？（） A: 接触式光刻 B: 接近式光刻 C: 投影式光刻 D: 压印式光刻 什么是光刻？光刻的主要流程有哪些？ 简述接触式光刻、接近式光刻及投影式光刻的优缺点。 PN结隔离的双极集成电路工艺需要几次光刻，每次光刻目的是什么？
