1光刻技术的主要步骤包括( )
A: 抗蚀剂的涂布
B: 对准曝光
C: 显影
D: 其它选项都正确
A: 抗蚀剂的涂布
B: 对准曝光
C: 显影
D: 其它选项都正确
D
举一反三
- 光刻技术的主要步骤包括( ) A: 抗蚀剂的涂布 B: 对准曝光 C: 显影(Develop) D: 以上全部
- 光刻技术______ <br/>光刻加工是用照相复印的方法将光刻掩膜上的图像印制在涂有光致抗蚀剂______ 的薄膜或基材表面,然后进行选择性腐蚀,刻蚀出规定的图形。光刻工艺的基本过程包括涂胶、曝光、显影、坚膜、腐蚀、去胶。
- 中国大学MOOC: 1光刻技术的主要步骤包括( )
- 静电印刷的过程包括三个主要步骤，以下不属于其主要三大步骤的选项是（） A: 曝光 B: 显影 C: 转印 D: RIP解析
- 光刻技术中的曝光方式主要包括下面哪几种？（）。 A: 压印式光刻 B: 投影式光刻 C: 接近式光刻 D: 接触式光刻
内容
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光刻工艺流程一共可分为七大步骤，其中曝光之后的工艺是 。 A: 前烘 B: 后烘 C: 显影 D: 刻蚀
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常见的光刻对准曝光设备有？
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光刻的主要工艺流程按照操作顺序是（）。 A: 涂胶、前烘、曝光、坚膜、显影、去胶 B: 涂胶、前烘、坚膜、曝光、显影、去胶 C: 涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、去胶 D: 前烘、涂胶、曝光、坚膜、显影、去胶
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光刻技术中的曝光方式主要包括下面哪三种？（） A: 接触式光刻 B: 接近式光刻 C: 投影式光刻 D: 压印式光刻
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光刻加工的主要阶段有 A: 涂胶 B: 曝光及显影 C: 坚膜 D: 腐蚀及去胶