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  • 2022-05-30
    用高能粒子从某种物质的表面撞击出原子的物理过程叫()。
    A: 蒸镀
    B: 离子注入
    C: 溅射
    D: 沉积
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    举一反三

    • 利用高能粒子撞击具有高纯度靶材料表面,撞击出的原子最后淀积在硅片上的物理过程 是[br][/br]()。 A: 电阻加热蒸发 B: 电子束蒸发 C: 溅射 D: 电镀
    • 离子注入的能量远低于离子刻蚀和离子溅射沉积。
    • 物理气相沉积法主要包括 A: 真空蒸镀 B: 激光镀膜 C: 溅射镀膜 D: 离子镀膜
    • 溅射(Sputtering)是由 轰击靶材表面,使靶原子从靶表面飞溅出来淀积在衬底上形成薄膜。 A: 高能离子 B: 电子 C: 中性粒子 D: 负离子
    • 常见的物理气相沉积技术有。? 离子镀膜|分子束外延技术|真空蒸镀|溅射镀膜

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    相关标签

      离子注入 表面 沉积 理过 某种 注入 粒子 物质 撞击 溅射 物理 击出 过程 高能 离子 原子

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