杨氏双缝干涉实验中,光源上下移动时,干涉条纹如何变化
举一反三
- 杨氏双缝实验中，向下移动光源，干涉条纹向下移动。
- 在杨氏双缝干涉实验中，如果光源缝慢慢张开，则（） A: 条纹间距减小 B: 干涉条纹移动 C: 可见度下降 D: 干涉条纹没有变化
- 在双缝干涉实验中，（1） 当缝间距不断增大时,干涉条纹如何变化? 为什么?（2）当缝光源 [tex=0.643x1.0]jLbabU9pW65GUKemsNBJWw==[/tex] 平行于双缝屏面向上或向下移动时,干涉条纹如何变化?
- 杨氏双缝干涉装置中,如果光源沿垂直轴线方向下移,则干涉图样将如何变化?( ) A: 条纹上移 ,间距不变 B: 条纹下移,间距不变 C: 条纹上移 ,间距变大 D: 条纹下移,间距变大
- 在杨氏干涉实验中，作如下变化, 干涉条纹将如何变化?[color=#000000]加大双缝间距.[/color]