• 2022-06-11
    可以用于图像感应的元件是_ __。
    A: PVD
    B: MEMS
    C: CVD
    D: CMOS
  • D

    内容

    • 0

      集成电路制造工艺中,不能制备二氧化硅薄膜的方法是: 。 A: 热氧化 B: CVD C: PVD D: 热扩散

    • 1

      如果要求非常良好的孔填充特性,应该使用下列哪种加工工艺? A: CVD B: PVD C: 蒸发 D: 电镀

    • 2

      在CMOS工艺中,最为昂贵的步骤是: A: 光刻 B: 离子注入 C: CVD D: 腐蚀

    • 3

      图像感应器,又叫感光元件,目前市场上图像传感器有CMOS和CCD两种类型

    • 4

      根据图像传感器元件不同可分为CCD(电荷耦合元件)和CMOS(互补金属氧化物半导体元件)两种。