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  • 2022-05-26
    数字投影微光刻技术相较于传统平面光刻的优势为
    A: 可以制造复杂3D结构
    B: 精度更高
    C: 无需高昂的设备和掩膜制造
    D: 可对任何性质材料进行打印
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    举一反三

    • 数字投影微光刻技术相较于传统平面光刻的优势为
    • 数字投影微光刻技术中的动态掩膜同传统平面光刻的掩膜结构类似
    • 当前,数字投影微光刻技术的主要局限在于( )。 A: 制造精度,分辨率不高 B: 材料相对比较局限 C: 无法进行复杂3维结构制造 D: 无法进行多材料打印
    • 目前,相较于光敏树脂的打印,水凝胶的数字投影微光刻打印可以获得更高的打印精度
    • 目前我国半导体制造工艺主要受制于EUV光刻机。利用EUV光源进行光刻相较于普通UV可以得到更高的光刻精度,主要因为EUV的能量更小。 ( )

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