关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！ 2022-10-27 目前我国半导体制造工艺主要受制于EUV光刻机。利用EUV光源进行光刻相较于普通UV可以得到更高的光刻精度，主要因为EUV的能量更小。 （ ） 目前我国半导体制造工艺主要受制于EUV光刻机。利用EUV光源进行光刻相较于普通UV可以得到更高的光刻精度，主要因为EUV的能量更小。 （ ） 答案： 查看 举一反三 目前我国半导体制造工艺主要受制于EUV光刻机。提高光刻最小线宽还可以通过提升介质的介电常数实现。 （ ） 常见的几种先进光刻技术有:极紫外线(EUV)光刻技术、电子束光刻、X射线光刻、浸入式光刻技术、纳米压印技术。( ) 数字投影微光刻技术相较于传统平面光刻的优势为 A: 可以制造复杂3D结构 B: 精度更高 C: 无需高昂的设备和掩膜制造 D: 可对任何性质材料进行打印 目前，相较于光敏树脂的打印，水凝胶的数字投影微光刻打印可以获得更高的打印精度 数字投影微光刻技术相较于传统平面光刻的优势为
