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  • 2022-10-26
    利用含有薄膜元素的[ ]或[ ]、[ ],在衬底表面上令其进行化学反应生成固体薄膜,称为化学气相沉积(CVD)薄膜。
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    举一反三

    • 物理气相沉积是指在真空条件下,利用各种物理方法,将镀料气化成[ ]、[ ]或使其[ ],直接沉积到基片(工件)表面形成固态薄膜的方法。
    • 化学气相沉积直接制备多晶硅薄膜的方法有()。 A: 热丝化学气相沉积制备多晶硅 B: 低压化学气相沉积制备多晶硅 C: 非晶硅晶化制备多晶硅薄膜 D: 等离子增强化学气相沉积
    • 以下属于多晶硅薄膜直接制备法的有( )。 A: 液相外延(LPE)法 B: 化学气相沉积(CVD)法 C: 等离子增强化学气相沉积(PECVD)法 D: 低压化学气相沉积(LPCVD)
    • 制备多晶硅薄膜最常用的方法,就是在真空条件下,将SiH4等和H2的混合气体在一定的压力、温度、气体配比等条件下分解,然后再加热(300-1200℃),在衬底上沉积得到多晶硅薄膜,这就是所谓的化学气相沉积(CVD)法。
    • [化学一化学与技术]

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      进行 表面上 称为 薄膜 表面 沉积 反应 cvd 化学反应 固体 含有 利用 元素 91 衬底 93 面上 化学 令其 生成

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