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  • 2022-10-27
    中国大学MOOC: 化学机械抛光CMP工艺中影响抛光质量的三大关键要素是()。
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    举一反三

    • 化学机械抛光CMP工艺中影响抛光质量的三大关键要素是()。 A: 抛光机 B: 抛光液 C: 抛光垫 D: 后清洗设备
    • 中国大学MOOC: 化学机械抛光CMP工艺是最先进最广泛应用的抛光技术,抛光技术非常成熟,不会产生任何缺陷。
    • 中国大学MOOC: CMP抛光质量的影响因素有()。
    • 中国大学MOOC: CMP工艺中抛光压力越大,抛光速率越快,抛光效果就越好。
    • 化学机械抛光CMP设备中的抛光区域温度升高,抛光速率会减小,但是温度过高过低均会引起抛光质量下降。

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