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  • 2022-10-27
    中国大学MOOC: 光刻包括两种基本的工艺类型:负性光刻和正性光刻,负性光刻中采用的光刻胶是( )。
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    举一反三

    • 光刻包括两种基本的工艺类型:负性光刻和正性光刻,负性光刻中采用的光刻胶是( )。 A: 正性光刻胶 B: 正性或负性光刻胶 C: 负性光刻胶 D: 电子束光刻胶
    • 光刻包括两种基本的工艺类型:负性光刻和( ),两者的主要区别是所用光刻胶的种类不同。
    • 中国大学MOOC: 光刻包括两种基本的工艺类型:负性光刻和( ),两者的主要区别是所用光刻胶的种类不同,前者是( ),后者是( )。
    • 什么是负性光刻?正性光刻?
    • 解释正性光刻和负性光刻的区别?为什么正胶是普遍使用的光刻胶?最常用的正胶是指哪些胶?

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