利用电子枪发射具有一定能量的电子并聚焦成电子束,打在光刻胶上,使光刻胶发生反应,改变溶解度,完成曝光的方式是:
A: 极紫外光光刻
B: 电子束光刻
C: 离子束光刻
D: 浸润式光刻
A: 极紫外光光刻
B: 电子束光刻
C: 离子束光刻
D: 浸润式光刻
举一反三
- 以下各种光刻技术中，不属于非光学曝光的是 A: 电子束光刻 B: 离子束光刻 C: X射线光刻 D: 浸润式光刻
- 在传统光刻机的光学镜头与晶圆之间的介质可用水替代空气,以缩短曝光光源波长和增大镜头的数值孔径,从而提高分辨率,这种光刻技术是: A: 极紫外光光刻 B: 电子束光刻 C: 离子束光刻 D: 浸润式光刻
- 光刻技术中的曝光方式主要包括下面哪几种？（）。 A: 压印式光刻 B: 投影式光刻 C: 接近式光刻 D: 接触式光刻
- 光刻技术中的曝光方式主要包括下面哪三种？（） A: 接触式光刻 B: 接近式光刻 C: 投影式光刻 D: 压印式光刻
- 三维立体光刻中的光刻胶属于 光刻胶。 A: 正性 B: 负性 C: 电子束 D: 中性