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  • 2022-10-27
    化学气相淀积常见的种类有:
    A: APCVD
    B: LPCVD
    C: PECVD
    D: HDPCVD
    E: LCVD
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    举一反三

    • 常见的化学气相淀积方法有 A: APCVD B: LPCVD C: PECVD D: HDPCVD
    • 低压化学气相淀积的英文缩写是()。 A: APCVD B: PECVD C: LPCVD D: HDPCVD
    • 缩略语PECVD、LPCVD、HDPCVD和APCVD的中文名称分别是()、()、高密度等离子体化学气相淀积和()。
    • 对于已经完成金属化工艺,介质的淀积常常采用哪种方法 A: APCVD B: LPCVD C: PECVD D: LCVD
    • 等离子体增强化学气相淀积的英文缩写是 A: HDPCVD B: PECVD

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