关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！ 2022-10-27 常见的几种先进光刻技术有:极紫外线(EUV)光刻技术、电子束光刻、X射线光刻、浸入式光刻技术、纳米压印技术。( ) 常见的几种先进光刻技术有:极紫外线(EUV)光刻技术、电子束光刻、X射线光刻、浸入式光刻技术、纳米压印技术。( ) 答案： 查看 举一反三 X射线光刻、电子束光刻和极紫外光刻技术均是通过减小光源波长来提高分辨率的先进光刻技术。 A: 正确 B: 错误 中国大学MOOC: X射线光刻、电子束光刻和极紫外光刻技术均是通过减小光源波长来提高分辨率的先进光刻技术。 以下各种光刻技术中，不属于非光学曝光的是 A: 电子束光刻 B: 离子束光刻 C: X射线光刻 D: 浸润式光刻 浸入式光刻技术可以提高光刻的分辨率。 13、主要用于制作光学掩膜版的光刻技术是： A: A、光学光刻技术 B: B、电子束光刻技术 C: C、离子束光刻技术 D: D、X射线光刻技术
