13、主要用于制作光学掩膜版的光刻技术是：
A: A、光学光刻技术
B: B、电子束光刻技术
C: C、离子束光刻技术
D: D、X射线光刻技术
A: A、光学光刻技术
B: B、电子束光刻技术
C: C、离子束光刻技术
D: D、X射线光刻技术
举一反三
- 12、主要用于光学掩膜修补和集成电路芯片修复的光刻技术是： A: A、光学光刻技术 B: B、电子束光刻技术 C: C、离子束光刻技术 D: D、X射线光刻技术
- 以下各种光刻技术中，不属于非光学曝光的是 A: 电子束光刻 B: 离子束光刻 C: X射线光刻 D: 浸润式光刻
- 常见的几种先进光刻技术有:极紫外线(EUV)光刻技术、电子束光刻、X射线光刻、浸入式光刻技术、纳米压印技术。( )
- 根据曝光时所用的光源不同,光刻可分为。 ( ) A: 离子束光刻法 B: 光学光刻法 C: X射线光刻法 D: 电子束光刻
- 根据曝光时所用的光源不同,光刻可分为。 ( ) A: 离子束光刻法 B: 光学光刻法 C: X射线光刻法 D: 电子束光刻