抛光区域温度的温度选择要合适，温度过高会引起抛光液的挥发及快速的化学反应，使表面腐蚀严重，抛光不均匀。温度过低，则会使反应速率降低、机械损伤严重。
举一反三
- 抛光区域温度的温度选择要合适，温度过高会引起抛光液的挥发及快速的化学反应，使表面腐蚀严重，抛光不均匀。温度过低，则会使反应速率降低、机械损伤严重。 A: 正确 B: 错误
- 化学机械抛光CMP设备中的抛光区域温度升高，抛光速率会减小，但是温度过高过低均会引起抛光质量下降。
- 化学机械抛光CMP设备中的抛光区域温度升高，抛光速率会减小，但是温度过高过低均会引起抛光质量下降。 A: 正确 B: 错误
- 若抛光的温度过高，反应剧烈会放出大量的热导致抛光液沸腾，要防止抛光液溢出，应严格控制反应时间
- 以下哪些是影响CMP质量的主要因素 A: 抛光液的粘度、PH值 B: 抛光区域的温度 C: 抛光的压力 D: 抛光垫的表面粗糙度