4.7 湿法刻蚀的刻蚀槽中加入的化学试剂有
举一反三
- 干法刻蚀和湿法刻蚀二者中，通常（）的刻蚀选择比较高，（）的刻蚀通常是各向异性。 A: 湿法刻蚀 干法刻蚀 B: 干法刻蚀 湿法刻蚀 C: 湿法刻蚀 湿法刻蚀 D: 干法刻蚀 干法刻蚀
- （）的刻蚀方法是以等离子体辅助来进行薄膜刻蚀的一种技术。 A: 干法刻蚀 B: 湿法刻蚀 C: 化学刻蚀 D: 物理刻蚀
- 中国大学MOOC: 刻蚀的方法有两类：湿法刻蚀和干法刻蚀，其中，（）是利用液体化学试剂以化学形式除去硅片表面材料。而（）是利用等离子体辅助来进行刻蚀的技术，刻蚀反应中不涉及液体。
- SiO2的湿法刻蚀溶液中加入 物质，可以减缓刻蚀速率。
- 刻蚀根据是否采用化学溶液分为 A: 干法刻蚀 B: 湿法刻蚀 C: 等离子体刻蚀 D: 溅射刻蚀