SiO2在IC中具有重要的作用，以下作用中不属于SiO2的是 。
A: 杂质扩散的掩蔽膜
B: 器件保护和钝化膜
C: 有源区接触材料
D: MOS电容的介质材料
A: 杂质扩散的掩蔽膜
B: 器件保护和钝化膜
C: 有源区接触材料
D: MOS电容的介质材料
举一反三
- 二氧化硅的作用有哪些？ A: 选择性扩散的掩蔽层 B: 器件的保护和钝化层 C: 隔离和绝缘介质 D: MOS管的绝缘栅材料
- 在半导体制造中，氮化硅Si3N4可以作为杂质扩散的掩蔽膜和钝化膜使用。
- 双大马士革布线结构中各层作用说法错误的是 A: 、Cu打底层的作用是为了增强Cu布线与基体的附着力 B: 、金属阻挡层是为了阻止Cu在Si和SiO2中的扩散 C: 、低k膜是为了抑制布线和连接柱之间产生电容 D: 、绝缘膜阻挡层是为了钝化保护器件
- 砂岩的主要成分为（ ），粘土含量小于（ ）. A: CaCO3，25% B: SiO2和Al2O3，15% C: SiO2，25% D: SiO2,30%
- 在半导体制造中，氮化硅Si3N4可以作为杂质扩散的掩蔽膜和钝化膜使用。 A: 正确 B: 错误