二氧化硅的作用有哪些？
A: 选择性扩散的掩蔽层
B: 器件的保护和钝化层
C: 隔离和绝缘介质
D: MOS管的绝缘栅材料
A: 选择性扩散的掩蔽层
B: 器件的保护和钝化层
C: 隔离和绝缘介质
D: MOS管的绝缘栅材料
举一反三
- 集成电路制造工艺中，二氧化硅膜不能用于： 。 A: 元器件的组成部分（如栅氧化层） B: 源漏极 C: 互连层间绝缘介质 D: 作为掩蔽膜
- 题6、集成电路制造工艺中，二氧化硅膜不能用于： 。 A: 元器件的组成部分（如栅氧化层） B: 源漏极 C: 互连层间绝缘介质 D: 作为掩蔽膜
- 集成电路生产所需固体材料有导体、半导体、绝缘体。其中半导体材料主要用于 A: 元件间互联 B: 层间绝缘隔离 C: 生产半导体器件 D: 表面钝化保护
- SiO2在IC中具有重要的作用，以下作用中不属于SiO2的是 。 A: 杂质扩散的掩蔽膜 B: 器件保护和钝化膜 C: 有源区接触材料 D: MOS电容的介质材料
- 绝缘栅场效应管可分为N沟道_______MOS管,P沟道增强型MOS管,______沟道耗尽型MOS管和P沟道______MOS管