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  • 2021-04-14
    多晶硅薄膜通常采取哪种方法制备:
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    举一反三

    • 多晶硅薄膜通常采取哪种方法制备: A: APCVD B: 磁控溅射 C: LPCVD D: VPE
    • 所谓多晶硅薄膜的间接制备法,就是先制备得到( )薄膜,再通过不同的晶化技术,将其晶化为多晶硅薄膜。 A: 非晶硅 B: 单晶硅 C: 微晶硅 D: 多晶硅
    • 化学气相沉积直接制备多晶硅薄膜的方法有()。 A: 热丝化学气相沉积制备多晶硅 B: 低压化学气相沉积制备多晶硅 C: 非晶硅晶化制备多晶硅薄膜 D: 等离子增强化学气相沉积
    • 多晶硅薄膜的间接制备法是指先制备得到 晶硅薄膜,再通过不同的晶化技术,将其晶化为多晶硅薄膜。
    • 硅(Si)易于通过沉积工艺制备出单晶硅、多晶硅 和非晶硅薄膜材料。

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