关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！ 2022-06-15 在溶液镀膜法中各列举一个制备Al2O3薄膜的方法是 。 A: 电子束蒸发 B: 阳极氧化 C: MOCVD D: 射频溅射 在溶液镀膜法中各列举一个制备Al2O3薄膜的方法是 。A: 电子束蒸发B: 阳极氧化C: MOCVDD: 射频溅射 答案： 查看 举一反三 中国大学MOOC: 在溶液镀膜法中各列举一个制备Al2O3薄膜的方法是 。 以下各种方法中，不是制备金属的常用方法的是： 。 A: 电阻丝加热蒸发 B: 电子束蒸发 C: 溅射 D: 氧化 大规模镀制化合物薄膜最适合采用的溅射方法是： 。 A: 二级溅射 B: 磁控溅射 C: 射频溅射 D: 反应溅射 以下方法中，可用于绝缘介质的淀积的是： 。 A: 电阻丝加热蒸发 B: 电子束蒸发 C: 直流溅射 D: 射频溅射 ⑤ 溅射镀膜有直流二极溅射，射频二极溅射，磁控溅射，IC制造中使用最多的是 A: 、直流二极溅射 B: 、射频二极溅射 C: 、磁控溅射
