X射线形貌技术的试验方法有（）
A: 反射形貌法
B: 透射形貌法
C: 双晶光谱仪法
D: 异常透射法
A: 反射形貌法
B: 透射形貌法
C: 双晶光谱仪法
D: 异常透射法
举一反三
- 下列测试方法中，能用于半导体材料表面形貌的检测方法是： A: 拉曼光谱 B: 表面光压法 C: X射线衍射 D: 扫描电子显微镜
- 如果要表征一个样品的形貌，可以采用以下哪种或者哪几种测试技术？ A: 扫描电子显微镜（SEM） B: X射线光电子能谱（XPS） C: 透射电子显微镜（TEM） D: X射线衍射分析（XRD） E: 红外光谱（IR）
- 透射电子显微镜配置选区电子衍射装置，使得薄膜样品的结构分析与形貌观察有机结合，是X射线衍射无法比拟的优点。
- 透射电子显微镜配置选区电子衍射装置，使得薄膜样品的结构分析与形貌观察有机结合，是X射线衍射无法比拟的优点。 A: 对 B: 错
- 电子束入射固体样品表面会激发出的信号中，哪一种能用来非常有效地显示样品的表面形貌 A: 二次电子 B: 背散射电子 C: 特征X射线 D: 透射电子