化学气相沉积（CVD）按照反应气压进行分类，可以分为？
A: 常压化学气相沉积
B: 低压化学气相沉积
C: 等离子体增强化学气相沉积
D: 高压气相沉积
A: 常压化学气相沉积
B: 低压化学气相沉积
C: 等离子体增强化学气相沉积
D: 高压气相沉积
举一反三
- “等离子体增强化学气相沉积”,是一种化学气相沉积。
- 以下属于多晶硅薄膜直接制备法的有（ ）。 A: 液相外延（LPE）法 B: 化学气相沉积（CVD）法 C: 等离子增强化学气相沉积（PECVD）法 D: 低压化学气相沉积（LPCVD）
- 薄膜沉积工艺可以分为气相沉积和(______ )两大类,气相沉积又分为(______ )气相沉积和化学气相沉积。
- 化学气相沉积直接制备多晶硅薄膜的方法有（）。 A: 热丝化学气相沉积制备多晶硅 B: 低压化学气相沉积制备多晶硅 C: 非晶硅晶化制备多晶硅薄膜 D: 等离子增强化学气相沉积
- 气相沉积法分为（）和化学沉积法；化学沉积法按反应的能源可分为热能化学气相沉积、（） 。