“等离子体增强化学气相沉积”,是一种化学气相沉积。
对
举一反三
- 化学气相沉积（CVD）按照反应气压进行分类，可以分为？ A: 常压化学气相沉积 B: 低压化学气相沉积 C: 等离子体增强化学气相沉积 D: 高压气相沉积
- “PECVD”中文表述是（）。 A: 脉冲激光沉积 B: 金属有机化学气相沉积 C: 溅射 D: 等离子体增强化学气相沉积
- 化学气相沉积直接制备多晶硅薄膜的方法有（）。 A: 热丝化学气相沉积制备多晶硅 B: 低压化学气相沉积制备多晶硅 C: 非晶硅晶化制备多晶硅薄膜 D: 等离子增强化学气相沉积
- 以下属于多晶硅薄膜直接制备法的有（ ）。 A: 液相外延（LPE）法 B: 化学气相沉积（CVD）法 C: 等离子增强化学气相沉积（PECVD）法 D: 低压化学气相沉积（LPCVD）
- 物理气相沉积方法有（ ）。 A: 磁控溅射 B: 等离子体增强化学气相沉积 C: 热蒸发 D: 电子束蒸发
内容
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关于化学气相沉积说法正确的是() A: 等离子增强化学气相沉积的台阶覆盖性比常压化学气相沉积的要好 B: 气相质量输运控制区,对温度很敏感 C: 表面化学反应控制区,对反应剂溶度很敏感
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可以进行局部沉积制膜的化学气相方法是______________ 。 A: 热分解沉积 B: 化学反应沉积 C: 等离子体增强沉积 D: 光化学沉积
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薄膜沉积工艺可以分为气相沉积和(______ )两大类,气相沉积又分为(______ )气相沉积和化学气相沉积。
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气相沉积法分为（）和化学沉积法；化学沉积法按反应的能源可分为热能化学气相沉积、（） 。
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气相沉积法分为物理气相沉积法和化学气相沉积法。（ ）