关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！ 2022-10-26 磁控溅射提高了沉积速率，但会导致基片温度升高。 磁控溅射提高了沉积速率，但会导致基片温度升高。 答案： 查看 举一反三 磁控溅射提高了薄膜速率，但会使基片温度升高。 磁控溅射可以增加溅射气体碰撞的概率，提高了沉积效率。 磁控溅射与二级溅射相比的特点是（ ）。 A: 靶材利用率高 B: 镀膜速率慢 C: 基片温度低、损伤小 D: 结构简单 磁控溅射为何既可以提高溅射速度又可以降低衬底温度？ ① 磁控溅射与直流二极溅射相比有什么优点？ A: 、电子能量小，致使基片的温升较低 B: 、溅射速率高 C: 、对基板的损伤小 D: 、靶上所加的电压更高
