下列方程式中属于刻蚀工艺的是______。
A: SiF4+2HF→H2[SiF6]
B: CF4+SiO2 → SiF4+CO2↑
C: CF4+SiO2 +O2→SiF4+CO2↑
D: SiO2+4HF→SiF4+2H2O
A: SiF4+2HF→H2[SiF6]
B: CF4+SiO2 → SiF4+CO2↑
C: CF4+SiO2 +O2→SiF4+CO2↑
D: SiO2+4HF→SiF4+2H2O
举一反三
- 下列方程式中属于刻蚀工艺的是______。 A: SiF4+2HF→H2[SiF6] B: CF4+SiO2 → SiF4+CO2↑ C: CF4+SiO2 +O2→SiF4+CO2↑ D: SiO2+4HF→SiF4+2H2O
- 将过量SiF[sub]4[/]通入NaOH溶液中，主要产物是( )。 A: Na<sub>2</sub>SiO<sub>3</sub>，Na<sub>2</sub>SiF<sub>6</sub> B: Na<sub>2</sub>SiO<sub>3</sub>，NaF C: H<sub>4</sub>SiO<sub>4</sub>，NaF D: SiO<sub>2</sub>，HF
- 下列反应为氧化还原反应的是（）。 A: 2XeF<sub >6</sub>+ SiO<sub >2</sub>→ SiF<sub >4</sub>+ 2XeOF<sub >4</sub> B: XeF<sub >6</sub>+ H<sub >2</sub>O → XeOF<sub >4</sub>+ HF C: XeF<sub >2</sub>+ C<sub >6</sub>H<sub >6</sub>→ C<sub >6</sub>H<sub >5</sub>F + HF + Xe D: CH<sub >3</sub>CSNH<sub >2</sub>+ H<sub >2</sub>O → CH<sub >3</sub>COONH<sub >4</sub>+ H<sub >2</sub>S
- 熔化下列晶体，只需克服色散力的是（）。 A: NH<sub>3</sub> B: HF C: SiF<sub>4</sub> D: H<sub>2</sub>S
- 下列分子中键角最小的是( )。 A: NH<sub>3</sub> B: BF<sub>3</sub> C: H<sub>2</sub>O D: HgCl<sub>2</sub> E: SiF<sub>4</sub>