在RIE、等离子体刻蚀、离子铣三种干法刻蚀中，各向异性效果比较： A: 离子铣>;等离子体刻蚀>;RIE B: 等离子体刻蚀>;离子铣>;RIE C: 离子铣>;RIE>;等离子体刻蚀 D: RIE>;离子铣>;等离子体刻蚀

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RIE的含义是 A: 溅射刻蚀 B: 反应离子刻蚀 C: 等离子体刻蚀

在三种干法刻蚀中各向异性效果优劣排序：离子铣>RIE>等离子体刻蚀。

中国大学MOOC: 在RIE、等离子体刻蚀、离子铣三种干法刻蚀中，各向异性效果比较：

在RIE刻蚀中,深宽比越大,刻蚀速率越()。 A: 快 B: 慢 C: 一样

干法刻蚀主要包括下面几类（）。 A: 离子束刻蚀IBE B: 等离子体刻蚀PE C: 反应离子刻蚀RIE D: 高密度等离子体刻蚀HDP

RIE刻蚀反应的过程为: A: 物理作用 B: 化学作用 C: 既有物理作用,又有化学作用 D: 无作用