关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！ 2022-06-14 1. 薄膜材料制备中基片的清洗方法应根据薄膜生长方法和薄膜使用目的来确定 （ ） 1. 薄膜材料制备中基片的清洗方法应根据薄膜生长方法和薄膜使用目的来确定 （ ） 答案： 查看 举一反三 薄膜型SnO2气敏元件的绝缘基片采用______ 、石英玻璃或微晶玻璃等材料。制备薄膜的方法有：______ ，______ ，______ ，______ 等。 制备薄膜涂层时,基片的清洗的质量是决定最终涂层性能的关键。试简要回答玻璃基片清洗的过程有哪些? 采用PECVD技术制备薄膜材料时，薄膜的生长主要包含（）。 A: 电离 B: 运输 C: 沉积 D: 粘附 多晶硅薄膜通常采取哪种方法制备： 溅射制备SiO2薄膜，通常采用 ______ 溅射方法。
