关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！ 2022-10-27 与扩散源相比，离子注入有哪些优点？ 与扩散源相比，离子注入有哪些优点？ 答案： 查看 举一反三 与扩散相比，离子注入有两个优点，离子注入的工艺，是低温工艺，可以获得良好的掺杂层。（ ） 离子注入与扩散相比，哪种工艺温度更低 A: 离子注入 B: 扩散 C: 不确定 离子注入与扩散相比，哪种工艺造成的杂质的横向扩散更小。 A: 离子注入 B: 扩散 C: 不确定 关于离子注入掺杂，说法正确的有（） A: 离子注入对半导体晶格没有损伤 B: 离子注入利用电场来控制离子的注入深度 C: 离子注入利用磁场来筛选注入的离子 D: 将半导体晶片偏转一定的角度可以避免离子注入遇到的沟道效应 离子注入法有哪些优点？
